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新聞中心: 知識(shí)科普; 特色服務(wù); 相關(guān)專業(yè)信息; 生產(chǎn)工藝介紹; 常見(jiàn)問(wèn)題

知識(shí)科普

2023-03-21

為什么真空鍍膜可以做成半透效果而且不導(dǎo)電

并非完全不導(dǎo)電，利用了分子在薄膜狀態(tài)下的不連續(xù)性　　金屬或金屬化合物都具有導(dǎo)電性，只是導(dǎo)電率不同。但是，當(dāng)金屬或金屬化合物呈一種薄膜的狀態(tài)時(shí)，其相應(yīng)的物理特性會(huì)有所不同。　　常規(guī)的鍍膜材料中，如：銀是銀白效果和導(dǎo)電性能最好的金屬，但它厚度在5納米以下時(shí)，它是不導(dǎo)電的；鋁的銀白效果和導(dǎo)電性比銀稍微差一些，但它厚度在0.9納米時(shí)，就已經(jīng)具備導(dǎo)電性。

2023-03-20

氧化物介紹

氧化物薄膜機(jī)械牢固性強(qiáng),化學(xué)性能穩(wěn)定,折射率范圍寬,所以是一類極其重要的薄膜材料.它們的折射率和短波吸收限多數(shù)介于氟化物與硫化物之間.氧化物具有很高的熔點(diǎn),所以大多數(shù)材料都不易用電阻加熱蒸發(fā),而需用電子束加熱蒸發(fā).有些材料在加熱蒸發(fā)過(guò)程中,會(huì)與坩堝起反應(yīng)或在高溫時(shí)分解.為了改善所制備的氧化物薄膜的性能,所以有時(shí)也采用反應(yīng)蒸發(fā)技術(shù)和離子輔助淀積技術(shù)制備氧化物薄膜.離子輔助淀積的氧化物薄膜的折射率,在一定的離子能量范圍內(nèi)隨離子的能量增加而增加,對(duì)于Ta2O5薄膜(200~500eV),對(duì)于Al2O3薄膜

2023-03-17

影響陶瓷靶材的性能因素

目標(biāo)材料是制備薄膜的主要材料之一，主要用于集成電路、平板、太陽(yáng)能電池、記錄媒體、智能玻璃等，對(duì)材料的純度和穩(wěn)定性要求較高。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料，已經(jīng)發(fā)展起來(lái)，靶材市場(chǎng)規(guī)模日益擴(kuò)大。陶瓷靶材綁定是用焊料將靶材與背靶焊接，壓接、釬焊，導(dǎo)電膠主要有三種方式。目前，無(wú)氧銅常用作平面陶瓷靶材的背靶材料。特殊情況下，金屬鉬將用作背靶材料，厚度約為3mm。不銹鋼管和鈦管常用于旋轉(zhuǎn)靶材。

2023-03-16

鍍膜技術(shù)可分為哪些

一、鍍膜技術(shù)可分為哪些類型? 真空鍍膜,電鍍,化學(xué)反應(yīng) ,熱處理 ,物理或機(jī)械處理. 二、等離子技術(shù)在表面鍍膜技術(shù)中有哪些應(yīng)用? 濺射沉積 - 濺射是利用高速離子撞擊固體濺射靶,使表面分子飛濺并投射到基板上形成薄膜.濺射離子的初始動(dòng)能約為 100 eV.常見(jiàn)的等離子氣體是氬氣.

2023-03-15

半導(dǎo)體材料市場(chǎng)中的濺射靶材

簡(jiǎn)單地說(shuō),靶材就是高速核能粒子轟擊的目標(biāo)材料,通過(guò)更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)

2023-03-14

真空鍍膜的時(shí)候膜有黑點(diǎn)怎么辦？

膜上有灰塵點(diǎn)、白霧、油斑、指紋印、口水點(diǎn)等等統(tǒng)稱為膜臟，一般發(fā)生在膜內(nèi)或膜外，是鍍膜產(chǎn)品的常見(jiàn)問(wèn)題。部分是鍍膜工序的本身造成的，部分是前工程遺留的問(wèn)題，鍍膜最終的品質(zhì)是整個(gè)光學(xué)零件加工的(特別是拋光、清洗)的綜合反映，對(duì)于出現(xiàn)鍍膛不良時(shí)必須綜合考慮，才能真正找到不良產(chǎn)生的原因，對(duì)策改善才能取得成效。

2023-03-09

一文了解反應(yīng)濺射

代表面工程的發(fā)展越來(lái)越多地需要用到各種化合物薄膜,反應(yīng)磁控濺射技術(shù)是沉積化合物薄膜的主要方式之一.沉積多元成分的化合物薄膜,可以使用化合物材料制作的靶材濺射沉積,也可以在濺射純金屬或合金靶材時(shí),通入一定的反應(yīng)氣體,如氧氣、氨氣反應(yīng)沉積化合物演膜后者被稱這反應(yīng)測(cè)射通常純金屬靶和反應(yīng)氣體較容易獲得很高的純度,因而反應(yīng)濺射被廣泛的應(yīng)用沉積化合物薄膜.反應(yīng)濺射的優(yōu)勢(shì)有:

2023-03-08

靶材背靶綁定介紹

背靶綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來(lái),主要有三種的方式:壓接、釬煌和導(dǎo)電膠,靶材綁定常用釬煜釬料常用In、Sn、ln -Sn,一般使用軟釬料的情況下,要求濺射功率小于20W/cm 為什么要綁定背靶?

2023-03-07

有機(jī)金屬鹵化物鈣鈦礦的基本結(jié)構(gòu)及電池構(gòu)造

有機(jī)金屬鹵化物鈣鈦礦結(jié)構(gòu)太陽(yáng)能電池是一種以全固態(tài)鈣鈦礦結(jié)構(gòu)作為吸光材料的太陽(yáng)能電池。這種材料制備工藝簡(jiǎn)單，成本較低。鈣鈦礦材料的結(jié)構(gòu)通式為ABX3，其中A為有機(jī)陽(yáng)離子，B為金屬離子，X 為鹵系基團(tuán)。該結(jié)構(gòu)中，金屬B原子位于立方晶胞體心處，鹵素X原子位于立方體面心，有機(jī)陽(yáng)離子A位于立方體頂點(diǎn)位置(圖1)。相比于以共棱、共面形式連接的結(jié)構(gòu)，鈣鈦礦結(jié)構(gòu)更加穩(wěn)定，有利于缺陷的擴(kuò) 散遷移。

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