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知識(shí)科普

2023-06-12

鈦鋁合金濺射靶材的主要制備技術(shù)

鈦鋁合金濺射靶材的主要制備技術(shù)介紹……

2023-06-08

鈦鋁合金濺射鍍膜工藝

隨著人們環(huán)保意識(shí)的增強(qiáng),材料的表面鍍膜技術(shù)由傳統(tǒng)的電鍍及化學(xué)鍍技術(shù)逐漸過渡到真空濺射鍍膜技術(shù).真空磁控濺射鍍膜技術(shù)已經(jīng)在表面保護(hù)鍍層、電子產(chǎn)品鍍層、電磁屏蔽鍍膜、五金裝飾鍍層以及汽車和建筑玻璃鍍膜領(lǐng)域等得到了廣泛的應(yīng)用.因此,該領(lǐng)域?qū)ο嚓P(guān)鍍膜靶材的需求也顯得極為迫切

2023-06-07

一文讀懂反應(yīng)濺射

現(xiàn)代表面工程的發(fā)展越來越多地需要用到各種化合物薄膜,反應(yīng)磁控濺射技術(shù)是沉積化合物薄膜的主要方式之一.沉積多元成分的化合物薄膜,可以使用化合物材料制作的靶材濺射沉積,也可以在濺射純金屬或合金靶材時(shí),通入一定的反應(yīng)氣體,如氧氣、氮?dú)?反應(yīng)沉積化合物薄膜,后者被稱這反應(yīng)濺射

2023-06-06

真空鍍膜設(shè)備有哪些污染源

真空鍍膜設(shè)備是由許多精密的零部件所組成的,這些零部件均經(jīng)過許多機(jī)械加工流程而制作出來,如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序.正因?yàn)橛辛诉@些工作,導(dǎo)致設(shè)備零部件表面不可避免地會(huì)沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物.這些污染物在真空條件下易揮發(fā),從而對(duì)設(shè)備的極限真空造成影響。

2023-06-05

真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn)

真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜,實(shí)際上,這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜.此外,該工藝也特別適合用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積,包括了光學(xué)設(shè)計(jì)、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、超晶格鍍膜、絕緣膜等.早在1970年,已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學(xué)薄膜沉積案例,開發(fā)了多種光學(xué)膜層材料.這些材料包括有透明導(dǎo)電材料、半導(dǎo)體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等,至于氟化物則多是用在蒸發(fā)鍍膜等工藝當(dāng)中。 ?

2023-06-02

石英片磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)

一、優(yōu)點(diǎn) 二、缺點(diǎn) 三、使用靶材時(shí)的注意事項(xiàng) 四、機(jī)器運(yùn)行時(shí)的注意事項(xiàng) 五、確定鍍膜速率的方法: 六、技術(shù)注意事項(xiàng)

2023-06-01

晶粒大小對(duì)靶材濺射的作用

通常靶材為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小可由微米到毫米量級(jí).晶粒越細(xì)小則晶界面積越大,對(duì)性能的影響也越大.對(duì)于同一種靶材,晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻.據(jù)研究發(fā)現(xiàn),若將鈦靶的晶粒尺寸控制在100um以下,且晶粒大小的變化保持在20%以內(nèi),其濺射所得的薄膜的質(zhì)量可得到大幅度的改善。

2023-05-30

磁控濺射靶材鍍膜原理詳解

磁控濺射是利用磁場(chǎng)束縛電子的運(yùn)動(dòng),提高電子的離化率。與傳統(tǒng)濺射相比具有"低溫(碰撞次數(shù)的增加,電子的能量逐漸降低,在能量耗盡以后才落在陽極)"、"高速(增長電子運(yùn)動(dòng)路徑,提高離化率,電離出更多的轟擊靶材的離子)"兩大特點(diǎn)。通過磁場(chǎng)提高濺射率的基本原理由Penning在60多年前發(fā)明,后來由Kay和其他人發(fā)展起來,并研制出濺射槍和柱式磁場(chǎng)源。1979年Chapin引入了平面磁控結(jié)構(gòu)。

2023-05-29

一文了解氟化物

多數(shù)氟化物薄膜材料的熔點(diǎn)都比較低。氟化物薄膜的折射率一般也都比較低,所以常用作減反射膜。氟化物薄膜材料的另一個(gè)特點(diǎn)是它們從紫外到紅外都具有高度的透明性(CeF3除外,其透明波段為300nm到5μm),因此其在紫外區(qū)的應(yīng)用也具有特別的價(jià)值。除特殊工藝制備的氟化物薄膜之外,其薄膜的機(jī)械強(qiáng)度均較差,且耐潮性能也不好(加高溫鍍制的MgF2除外)。對(duì)稀土氟化物薄膜材料進(jìn)行研究大約是40多年前的事。一些文章對(duì)于鑭、鈰和釹的氟化物薄膜在200~2000nm光譜區(qū)域給出了其折射率和消光系數(shù)值。

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