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2023-04-20
磁控濺射鍍膜要點(diǎn)
磁控濺射是一種涉及氣態(tài)等離子體的沉積技術(shù),該等離子氣體被生成并限制在一個(gè)包含要沉積的材料的空間內(nèi),濺射靶材的表面被等離子體中的高能離子侵蝕,釋放出的原子穿過真空環(huán)境并沉積在基板上以形成薄膜.
2023-04-19
濺射鍍膜技術(shù)的應(yīng)用
1. 制備薄膜磁頭的耐磨損氧化膜 硬盤磁頭進(jìn)行讀寫操作時(shí)與硬盤表面產(chǎn)生滑動(dòng)摩擦,為了減小摩擦力及提高磁頭壽命,目前磁頭正向薄膜化方向發(fā)展. 絕緣膜和保護(hù)膜(即AL 2 O 3 、SiO 2 氧化物薄膜)是薄膜磁頭主要構(gòu)成成份 .對(duì)薄膜磁頭的耐磨損膜的要求是耐沖擊性好,耐磨性好,有適當(dāng)?shù)目杉庸ば砸约凹庸ぷ冃涡?通常采用反應(yīng)濺射法制備該種薄膜.為了防止基片升溫過高,濺射鍍膜過程中要對(duì)基片進(jìn)行冷卻.
2023-04-18
磁控濺射鍍膜技術(shù)的發(fā)展
濺射鍍膜是指在真空室中,利用荷能粒子轟擊靶材表面,通過粒子動(dòng)量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子,并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術(shù).濺射鍍膜技術(shù)具有可實(shí)現(xiàn)大面積快速沉積,薄膜與基體結(jié)合力好,濺射密度高、針孔少,膜層可控性和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn),而且任何物質(zhì)都可以進(jìn)行濺射,因而近年來發(fā)展迅速,應(yīng)用廣泛.
2023-04-17
蒸發(fā)鍍膜穩(wěn)定性與均勻性的控制
1、蒸鍍工藝方式的選擇 熱電阻蒸鍍與電子束蒸鍍是Z為常見的蒸發(fā)鍍膜方式,其中熱電阻蒸鍍的原理是通過電流加熱蒸發(fā)蒸發(fā)舟上的原料,而電子束蒸鍍的原理是通過電子束加熱蒸發(fā)水冷坩堝上的原料. 熱電阻蒸鍍的優(yōu)點(diǎn)在于設(shè)備簡(jiǎn)單、價(jià)格低、可靠性較高,對(duì)原料預(yù)熱充分,不容易導(dǎo)致化合物原料分解,其缺點(diǎn)在于能達(dá)到的溫度不高,加熱器使用壽命不長(zhǎng).
2023-04-12
干貨——光學(xué)鍍膜的物理方法
使用機(jī)械的、機(jī)電的、熱力的方法來產(chǎn)生形成固態(tài)薄膜.通常是物理氣相沉積的方法Physical vapor deposition(PVD).以下是常見的物理鍍膜工藝:
2023-04-11
真空鍍膜技術(shù)種類
一、真空蒸鍍法 真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空,然后加熱被蒸發(fā)的鍍料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到基片表面,凝結(jié)形成固體薄膜的技術(shù).
2023-04-11
干貨——光學(xué)鍍膜的化學(xué)方法
鍍膜是半導(dǎo)體及光學(xué)工業(yè)中最為重要的工藝之一.這里會(huì)總體歸納各類鍍膜/薄膜工藝,從原理上了解這些工藝的異同.
2023-04-10
光學(xué)鍍膜的分類以及他的特性
光學(xué)制造在中國(guó)大陸的土地發(fā)展迅猛異常.中國(guó)光學(xué)制造已經(jīng)開始在國(guó)際經(jīng)濟(jì)舞臺(tái)上有了重要的地位,中國(guó)的光學(xué)玻璃產(chǎn)量和光學(xué)零件產(chǎn)量已近名列靠前.
2023-04-07
光學(xué)薄膜的種類
用光學(xué)功能薄膜制成的種類繁多的光學(xué)薄膜器件,已成為光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)儀器中不可缺少的重要部件.其應(yīng)用已從傳統(tǒng)的光學(xué)儀器發(fā)展到天文物理、航天、激光、電工、通信、材料、建筑、生物醫(yī)學(xué)、紅外物理、農(nóng)業(yè)等諸多技術(shù)領(lǐng)域.
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