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知識科普

2023-05-10

介質膜介質膜不導電,利用菲涅爾公式,通過一定折射率的材料,加上等傾干涉的條件,實現(xiàn)反射波相長,從而獲得較大的反射率.具有干涉效應,具有隨波長或厚度的變化而呈現(xiàn)周期性變化的性質.長波區(qū)域薄膜的特性比短波區(qū)域有所減弱.

2023-05-08

磁控濺射鍍膜設備的工作原理

磁控濺射鍍膜設備的工作原理要從一開始的"濺射現(xiàn)象"說起,人們由起初發(fā)覺"濺射現(xiàn)象"發(fā)展至"濺射鍍膜"此間歷經(jīng)了相當長的發(fā)展時間,濺射現(xiàn)象早在19世紀50年代的法拉第氣體放電實驗就已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了.不過當時還只將此現(xiàn)象作為一種避免范疇的研究,認為這種現(xiàn)象是有害的.

2023-05-06

蒸鍍的加熱方式

加熱方式分為: (1)電阻加熱;(2)感應加熱;(3)電子束加熱;(4)雷射加熱;(5)電弧加熱.

2023-05-05

不同蒸發(fā)源的優(yōu)缺點

電阻加熱蒸發(fā)源優(yōu)點: 1.結構簡單、使用方便、造價低廉,因此使用普遍;2.可蒸發(fā)蒸發(fā)溫度小于1500℃的鋁、金、銀等金屬,蒸發(fā)一些硫化物、氟化物和某些氧化物. 要求: 1.蒸發(fā)源材料的自身熔點要高; 2.飽和蒸汽壓要低; 3.化學性能要穩(wěn)定,且具有良好的耐熱性,熱源變化時,功率密度變化較小;4.蒸發(fā)源對膜材料的"濕潤性"好. 電子束加熱蒸發(fā)源

2023-05-04

ITO透明導電薄膜發(fā)展歷程

透明導電氧化物(Transparent Conductive Oxide,TCO)是一種在可見光光譜范圍(380nm < λ < 780nm)透過率很高且電阻率較低的薄膜材料.TCO薄膜材料主要有CdO、In2O3、SnO2和ZnO等氧化物及其相應的復合多元化合物半導體材料.

2023-04-23

薄膜內應力產(chǎn)生因素

磁控濺射鍍膜中,薄膜由于各種原因會產(chǎn)生內應力,不將其控制在合理的范圍內會導致薄膜脫落等負面情況,大大減少使用壽命.內應力通常由于產(chǎn)生因素不同,會出現(xiàn)‘拉應力’和‘壓應力’兩種情況.由于內應力產(chǎn)生因素較多且鍍膜種類方式均有不同,本文對其產(chǎn)生因素做一個簡單概述,方便讀者在實際工作分析時有一個初步的判斷. 應力的定義

2023-04-23

磁控濺射鍍膜技術的物理過程

濺射氣體離子轟擊靶材引起靶材原子濺射濺射原子在背景氣體中的輸運過程濺射原子到達襯底后沉積過程由于原子生長等對于成膜質量比較關鍵,因此沉積過程為下文主要介紹方向.

2023-04-23

薄膜沉積—磁控濺射法

磁控濺射法具有設備簡單、鍍膜面積大、基面升溫緩慢以及成本相對較低的特點,在科研領域得到了廣泛的應用,本文以作者淺薄理解為基礎,磁控濺射鍍膜技術為例,從以下幾個方面帶讀者進行一個初步了解圖片.

2023-04-23

磁控濺射工藝參數(shù)--襯底偏壓

磁控濺射鍍膜技術中,工藝參數(shù)對鍍膜質量的影響非常大,涉及知識面廣,變量多也是主要難題之一,本模塊的內容呢就是每次分享一種工藝參數(shù)的學習心得,積少成多~本文介紹的是‘偏置電壓’在鍍膜過程中的影響.

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