磁控濺射是一種涉及氣態(tài)等離子體的沉積技術(shù),該等離子氣體被生成并限制在一個包含要沉積的材料的空間內(nèi),濺射靶材的表面被等離子體中的高能離子侵蝕,釋放出的原子穿過真空環(huán)境并沉積在基板上以形成薄膜.
影響磁控濺射鍍膜結(jié)果的因素
1、濺射功率的影響,在基體和涂層材料確定的情況下,工藝參數(shù)的選擇對于涂層生長速率和涂層質(zhì)量都有很大的影響.其中濺射功率的設(shè)定對這兩方面都有極大的影響.
2、氣壓的影響,磁控濺射是在低氣壓下進行高速濺射,為此需要提高氣體的離化率,使氣體形成等離子體.在保證濺射功率固定的情況下,分析氣壓對于磁控濺射的影響.
磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品優(yōu)點
1、幾乎所有材料都可以通過磁控濺射沉積,而不論其熔化溫度如何;2、可以根據(jù)基材和涂層的要求縮放光源并將其放置在腔室中的任何位置;3、可以沉積合金和化合物的薄膜,同時保持與原始材料相似的組成.
磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點
1、磁控濺射所利用的環(huán)狀磁場迫使二次電子跳欄式地沿著環(huán)狀磁場轉(zhuǎn)圈.相應(yīng)地,環(huán)狀磁場控制的區(qū)域是等離子體密度最高的部位.在磁控濺射時,可以看見濺射氣體——氬氣在這部位發(fā)出強烈的淡藍色輝光,形成一個光環(huán).處于光環(huán)下的靶材是被離子轟擊最嚴(yán)重的部位,會濺射出一條環(huán)狀的溝槽.環(huán)狀磁場是電子運動的軌道,環(huán)狀的輝光和溝槽將其形象地表現(xiàn)了出來.磁控濺射靶的濺射溝槽一旦穿透靶材,就會導(dǎo)致整塊靶材報廢,所以靶材的利用率不高,一般低于40%;2、等離子體不穩(wěn)定;3、不能實現(xiàn)強磁性材料的低溫高速濺射,因為幾乎所有的磁通都通不過磁性靶子,所以在靶面附近不能加外加強磁場.
磁控濺射鍍膜的適用范圍
1、建材及民用工業(yè)中
2、在鋁合金制品裝飾中的應(yīng)用
3、高檔產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用
4、在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用
5、在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用
磁控濺射鍍膜注意事項
1、輻射:有些鍍膜要用到射頻電源,如功率大,需做好屏蔽處理.另外,歐洲標(biāo)準(zhǔn)在單室鍍膜機門框四周嵌裝金屬線屏蔽輻射;2、金屬污染:鍍膜材料有些(如鉻、銦、鋁)是對人體有害的,特別要注意真空室清理過程中出現(xiàn)的粉塵污染;3、噪音污染:如特別是一些大的鍍膜設(shè)備,機械真空泵噪音很大,可以把泵隔離在墻外;4、光污染:離子鍍膜過程中,氣體電離發(fā)出強光,不宜透過觀察窗久看.
