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常見(jiàn)問(wèn)題

2023-02-09

光學(xué)鍍膜的物理方法

使用機(jī)械的、機(jī)電的、熱力的方法來(lái)產(chǎn)生形成固態(tài)薄膜.通常是物理氣相沉積的方法Physical vapor deposition(PVD).以下是常見(jiàn)的物理鍍膜工藝:

2023-02-07

八大新型功能陶瓷材料

新型功能陶瓷材料是以電、磁、光、聲、熱、力學(xué)、化學(xué)或生物功能等的介質(zhì)材料.功能陶瓷材料種類繁多。用途廣泛,主要包括鐵電、壓電、介電、熱釋電、半導(dǎo)體、電光和磁性等功能各異的新型陶瓷材料。

2023-02-07

ITO濺射靶材的制作方法

ITO靶材主要有四種成型方法真空熱壓--真空熱壓法是利用熱能和機(jī)械能使陶瓷材料致密化的工藝,可生產(chǎn)密度為91%~96%的高密度ITO 陶瓷靶材,

2023-01-17

PVD技術(shù)常用的方法和介紹

PVD基本方法:真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng) 離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)，以下介紹幾種常用的方法，

2023-01-11

靶材在真空鍍膜中的應(yīng)用

新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾平都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用 RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材

2022-12-20

薄膜內(nèi)應(yīng)力產(chǎn)生因素

?磁控濺射鍍膜中,溥膜由于各種原因會(huì)產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力,不將其控制在合理的范圍內(nèi)會(huì)導(dǎo)致薄膜脫落等負(fù)面情況.大大減少使用壽命.內(nèi)應(yīng)力通常由于產(chǎn)生因素不同,會(huì)出現(xiàn)'拉應(yīng)力’和'壓應(yīng)力'兩種情況.由于內(nèi)應(yīng)力產(chǎn)生因素較多目鍍膜種類方式均有不同,本文對(duì)其產(chǎn)生因素做一個(gè)簡(jiǎn)單概述方便讀者在實(shí)際工作分析時(shí)有一個(gè)初步的判新

2022-12-20

薄膜沉積—磁控濺射法

磁控測(cè)射法具有設(shè)備簡(jiǎn)單，鍍膜面積大，其面升溫緩慢以及成本相對(duì)較低的特點(diǎn) 在科研領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用,本文以作者淺薄理解為基礎(chǔ),磁控濺射鍍膜技術(shù)為例,

2022-12-20

磁控濺射工藝參數(shù)——襯底偏壓

磁控濺射鍍膜技術(shù)中,工藝參數(shù)對(duì)鍍膜質(zhì)量的影響非常大,涉及知識(shí)面廣,變量多也是主要難題之一,本模塊的內(nèi)容呢就是每次分享一種工藝參數(shù)的學(xué)習(xí)心得,積少成多~本文介紹的是'偏置電壓’在鍍膜過(guò)程中的影響

2022-12-19

磁控濺射鍍膜要點(diǎn)

磁控濺射是一種涉及氣態(tài)等離子體的沉積技術(shù),該等離子氣體被生成并限制在一個(gè)包含要沉積的材料的空間內(nèi).濺射靶材的表面被等離子體中的高能離子侵蝕,釋放出的原子穿過(guò)真空環(huán)境并沉積在基板上以形成薄膜

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